Example of VA / VE proposals

CERAMICS DESIGN LAB > アルシーマダミーウェハのご提案

アルシーマダミーウェハのご提案

  • Problems
    Warped Wafer
  • Proposed Effect
    Warped Wafer Prevention
    Cost Reduction
  • Product Type
    Other

Customer's concerns and problems / Before

搬送ロボットのティーチングやアームのたわみ・センサー調整、搬送テストにおいて、アルミナや金属などのダミー材は重さ(比重)がシリコンと大きく異なり、実際の搬送挙動と乖離してしまうというご相談をいただきました。

Our proposals and improvement effects / After

そこで、アスザックのオリジナル素材「アルシーマL」をご提案いたしました。アルシーマは、密度2.41 g/cm³とシリコン(2.33〜2.34 g/cm³)に極めて近いため、実物ウエハとほぼ同じ重量感・たわみ特性でロボットの搬送テストやティーチングが可能です。

  • アルシーマダミーウェハのご提案|Ceramics Design Lab

Point of the proposed example / Point

本事例のポイントは、高価な実物ウエハを使わずにチャンバーメンテナンス時のロボットティーチングや搬送アライメント評価を再現・評価できる点にあります。さらに、アスザックでは12インチ(Φ300)サイズで各種反り量・反り形状のダミーウェハをご用意しております。Φ300以外のサイズ、オリフラ・ノッチの対応についても別途ご相談可能です。

Integrated response from processing to development of ceramic materials !

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Examples of VA/VE proposals
for designers and developers

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  • Deformation
  • Cost
  • Particles
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  • 大型偏光フィルムの吸着
  • Warped Wafer
  • Productivity (Throughput)
  • Impurities
  • Sparking
  • Wafer Scratching
  • Part Replacement Time
  • Outgassing
  • Surface Resistance
  • Wafer Sticking
  • Reflectance
  • Air-Permeability
  • Lint adhesion
  • Misalignment
  • Clogging
  • Plasma Resistance
  • Yield
  • Contact Damage
  • Product Life
  • Dust Emissions
  • Defect Rate
  • Heat Resistance
  • Contamination
  • Abrasion
  • Functionality
  • Chemical Resistance
  • Corrosion Resistance
  • 薄ウェハ

Part Replacement Time

薄ウェハ

  • 準備中です
  • Metal Contamination Control
  • Wear Resistance Improvement
  • Improved Functionality
  • Wafer Scratch Prevention
  • Anti-Static Measures
  • Improved Heat Resistance
  • Portability
  • Warped Wafer Prevention
  • Sparking Prevention
  • Improved Chemical Resistance
  • Improved Productivity
  • Misalignment Prevention
  • Reduced Defect Rate
  • Improved Productivity(Improved Throughput)
  • Wear Resistance
  • Contact Damage Reduction
  • Yield Improvement
  • Man-Hour Reduction
  • Surface Resistance Control
  • Wear Prevention
  • Particle Control
  • Suction Mark Reduction
  • Outgassing Reduction
  • Deformation Reduction
  • Improved Plasma Resistance
  • Long Service Life
  • ワークの傷防止
  • Contamination Measures
  • Cost Reduction

Improved Functionality

Improved Productivity(Improved Throughput)

Man-Hour Reduction

Cost Reduction

  • Wafer Transfer End Effector / Handling Arm
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  • Porous Chuck
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  • PAD
  • Other

Wafer Transfer End Effector / Handling Arm

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