Original Product

2023.10.17

NEW! LeviZac®(薄型)浮上式標準ハンド(ベルヌーイ方式)

Classification: 浮上式標準ハンド(ベルヌーイ方式)

Use: ウエハ搬送用(大気用)

Material: 高純度アルミナ

Feature: 薄型のため、狭いカセットピッチへの搬送が可能
4～8インチの薄反りウエハの搬送が可能
8箇所のガイドでウエハの保持が可能

2023.09.25

NEW! UniZac-Pair 8-inch Porous embedded hand with sensor groove

Classification: Porous embedded End Effector

Use: For wafer transport (atmospheric use)

Material: Adsorption part：Porous ceramics,Body：Alumina and SiC（Silicon Carbide）

Feature: ・Grooved for sensor mounting
・Thin warped wafers can be adsorbed
・Hard to adhere adsorption marks on wafers

2023.09.14

NEW! 両面吸着多孔質チャック

Classification: 多孔質チャック

Use: 吸着

Material: 多孔質セラミックス,アルシーマ

Feature: 両面同時に吸着が可能
バックアップ用
固定用治具として利用可能

2023.08.08

多孔質セラミックスAZPV60

Classification: 多孔質セラミックス

Use: セッターフィルター吸着

Material: 多孔質セラミックス

Feature: 通気率向上
ワーク変形の防止
高い応答性

2023.07.13

UniZac-Obon® (ユニザックオボン)　トレイ式標準ハンド

Classification: トレイ式標準ハンド

Use: ウエハ搬送（大気用・真空用）

Material: 高純度アルミナ,炭化ケイ素,コルシード

Feature: 高耐熱性
高強度
薄型化

2023.04.21

LeviZac® Floating standard End Effector (Bernoulli method)

Classification: Floating standard End Effector (Bernoulli method)

Use: For wafer transport (atmospheric use)

Material: 高純度アルミナ

Feature: Capable of handling warped wafers　　　
Capable of handling thin wafers　　　
Achieves non-contact except for the outer guide

2023.04.24

PeriZac® (ペリザック)外周3mm吸着式標準ハンド

Classification: 外周3mm吸着式標準ハンド

Use: ウエハ搬送用(大気用)

Material: 高純度アルミナ

Feature: ウエハ外周3mm以内での吸着が可能
ワークにダメージを与えにくい材質のガイドを使用　　　
薄型化が可能

2023.05.31

UniZac-air® (ユニザックエア)　吸着ハンド

Classification: 吸着ハンド

Use: ウエハ搬送用(大気用)

Material: 高純度アルミナ

Feature: 耐久性向上
高耐熱性
接着剤不使用

2023.06.14

Porous embedded End Effector / Handling Arm

Classification: Adsorption End Effector / Handling Arm

Use: For wafer transport (atmospheric use)

Material: Adsorption part：Porous ceramics,Body：Alumina and SiC（Silicon Carbide）

Feature: Transfer of thin warped wafers is possible.　　
Hard to adsorb traces on wafers.

2023.06.14

PeriZac® Peripherally Gripping End Effector / Handling Arm

Classification: Outer circumference 3mm adsorption type standard End Effector

Use: For wafer transport (atmospheric use)

Material: High Purity Alumina

Feature: Capable of suction within 3mm of wafer circumference　　　
Use of a material that does not damage the workpiece　
Use of a guide made of a material that is resistant to damage to the workpiece
Enables thinner wafers