| Product Name | 精密セラミックボール（炭化ケイ素SiC3N） |
|---|---|
| Industry |
Semiconductor Industrial machinery Other |
| Product Type | Other |
| Material | High Purity Silicon Carbide |
| Size | SΦ2.38 |
| Surface roughness | 0.1 µm |
| 真球度 | 3 µm |
| 純度 | 99.9 % |
こちらは、精密セラミックボール（炭化ケイ素SiC3N）です。真球度3 µｍ以下での加工が可能です。重金属を極力減らしたSiC3N素材（純度99.9%）のため、メタルコンタミを防ぐことができます。耐摩耗性や耐衝撃性、耐久性に優れ、原材料の粉砕・分散に適しています。また、ベアリング部品にも利用可能です。半導体製造装置、自動車、発電機など、幅広い分野で利用できる製品です。
「セラミックスデザインラボ」を運営するアスザック株式会社では、SiC原料の造粒、成形から、グリーン加工（生加工）、焼成、二次加工、検査・洗浄までを一貫して行っております。
本製品のようなセラミックボールのほか、搬送ハンド、ウエハートレイ、吸着チャック、焼成用セッターなどのセラミックス製品の製作実績が多数ございます。 半導体向けのセラミックス製品の設計・製作なら、アスザックにお任せください。
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