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高純度SiC製 プレート(SiC3N)

高純度SiC製 プレート(SiC3N)|セラミックスデザインラボ
高純度SiC製 プレート(SiC3N)|セラミックスデザインラボ
高純度SiC製 プレート(SiC3N)|セラミックスデザインラボ
製品名称 高純度SiC製 プレート(SiC3N)
業界 その他
製品種類 その他
材質 高純度SiC
サイズ 外径Φ180×厚み1 mm
こちらは、設備部品用途のSiC製プレートです。 材質は、3Nの高純度SiCを採用しております。当社のマシニングセンターを使用して、JIS中級の寸法精度で加工を行いました。外径Φ180×厚み1 mmの中心にΦ35の貫通穴を設けています。 「セラミックスデザインラボ」を運営するアスザック株式会社では、SiC原料の調合、造粒、成形から、グリーン加工(生加工)、焼成、二次加工、検査・洗浄までを一貫して行っております。本製品のようなセラミックスプレートのほか、ウエハ搬送用ハンドやウエハートレイ、吸着チャック、焼成治具などセラミックス製品の製作実績が多数ございます。さらに、3Nを含む高純度SiCをはじめ、高純度アルミナ、静電気拡散アルミナ、多孔質セラミックス、導電性セラミックス、耐熱性セラミックスなど様々なセラミックス材料を取り扱っております。製品用途・使用環境・要求される機能性に応じて最適なセラミックス材料をご提案させていただきます。 半導体・電子部品向けのセラミックス製品の設計・製作なら、アスザックにお任せください。

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