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精密セラミックボール(炭化ケイ素SiC3N)

精密セラミックボール(炭化ケイ素SiC3N)|セラミックスデザインラボ
精密セラミックボール(炭化ケイ素SiC3N)|セラミックスデザインラボ
精密セラミックボール(炭化ケイ素SiC3N)|セラミックスデザインラボ
製品名称 精密セラミックボール(炭化ケイ素SiC3N)
業界 半導体
産業機械
その他
製品種類 その他
材質 高純度SiC
サイズ SΦ2.38
表面粗さ 0.1 µm
真球度 3 µm
純度 99.9 %

こちらは、精密セラミックボール(炭化ケイ素SiC3N)です。真球度3 µm以下での加工が可能です。重金属を極力減らしたSiC3N素材(純度99.9%)のため、メタルコンタミを防ぐことができます。耐摩耗性や耐衝撃性、耐久性に優れ、原材料の粉砕・分散に適しています。また、ベアリング部品にも利用可能です。半導体製造装置、自動車、発電機など、幅広い分野で利用できる製品です。

 

「セラミックスデザインラボ」を運営するアスザック株式会社では、SiC原料の造粒、成形から、グリーン加工(生加工)、焼成、二次加工、検査・洗浄までを一貫して行っております。

本製品のようなセラミックボールのほか、搬送ハンド、ウエハートレイ、吸着チャック、焼成用セッターなどのセラミックス製品の製作実績が多数ございます。 半導体向けのセラミックス製品の設計・製作なら、アスザックにお任せください。

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